A multi-colored wafer

从源头开始的制程控制

五个新系统支持先进IC制造的图案控制

KLA先进的图形控制系统帮助IC制造商达到7nm以下的逻辑和存储器设计节点所需的制程误差容忍度。 我们的五个新系统是全系列量测,检测和分析系统组合中的关键组件 – 建立在开放式架构之上 – 支持从源头发现和控制图案变化。

ATL™

ATL™

基于散射测量的套刻测量系统,具有独特的可调谐激光技术,可在产品量产中实现高精度和稳定的套刻误差测量

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SpectraFilm™ F1

SpectraFilm™ F1

该薄膜测量系统,采用了多个光学创新技术,针对薄膜叠层结构实现高精度薄膜厚度和禁带测量

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5D Analyzer™ X1

5D Analyzer™ X1

先进的数据分析系统,具有开放式架构,支持多种量测和制程设备类型,可实现实时制程控制

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Teron™ 640e

Teron™ 640e

光罩缺陷检测产品系列,优化改进缺陷检测技术后,将用于光罩厂对EUV和193nm光罩的质量控制

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LMS IPRO7

LMS IPRO7

光罩图案配准计量系统具有高精度的器件测量,适用于先进的光罩生产和IC图案化

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