图案模拟

Close up of a patterned wafer

图案模拟

KLA的图案化模拟系统采用先进的计算模型探索光刻和图案化技术方案,了解其设计的关键特征、可制造性以及限制良率的工艺。我们的图案化模拟软件能够帮助研究人员评估先进的图案化技术,例如EUV光刻和多重曝光图案化技术,模拟评估无需准备实验材料、工艺设备测试并曝光显影成型数百个测试晶圆,从而节省了时间和费用。

PROLITH™

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PROLITH™

仿真的虚拟图案化

PROLITH™ 2019b光刻和图案化模拟解决方案使用创新的模型精确模拟一个设计在晶圆上实现的图案化情况。 PROLITH 2019b在IC、LED和MEMS制造商,扫描仪公司,涂胶显影机公司,光罩制造商,材料供应商和研究联盟等企业中被广泛应用,用于经济高效地评估图案化技术,包括EUV光刻和多重图案化技术。作为一个适用于所有图案化工艺的至关重要的建模工具,PROLITH 2019b可以帮助光刻工程师了解多重光刻工艺中的各个变量对于图案曝光显影成型的影响,并因此显著地缩短寻找解决方案的时间。

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应用

先进图案化模拟,晶圆表面形态建模

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