결함 검사 및 리뷰

결함 검사 및 리뷰

KLA의 결함 검사 및 리뷰 시스템은 툴, 공정 및 라인 모니터링 그리고 도입 공정 툴 인증, 웨이퍼 인증, 연구 개발을 포함한 칩 및 웨이퍼 제조 환경 내 수율 적용의 전체 범위를 다룹니다. 패턴 및 비패턴 웨이퍼 검사 및 리뷰 시스템을 통해 웨이퍼의 앞면, 뒷면 및 엣지에서 이물 및 패턴 결함을 검출, 파악 및 분류합니다. 엔지니어들은 해당 정보를 활용하여 핵심적인 수율 이탈점을 검출, 해결 및 모니터링하며 이를 통해 더 빠르게 수율에 도달하고 생산 수율을 높일 수 있습니다.

eSL10™

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eSL10™

전자빔 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템

eSL10™ 전자빔 (e-beam) 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템은 업계 에서 가장 높은 랜딩 에너지와 높은 해상도를 활용하여 작은 물리적 결함과 높은 종횡비의 결함을 검출함으로써, 첨단 로직, DRAM, 3D NAND 디바이스에 대한 공정 개발 및 생산 모니터링을 지원합니다. 혁신적인 전자 광학 설계가 적용된 eSL10™은 작은 스팟 크기에서 높은 빔 전류 밀도, 그리고 다양한 도전적인 공정층과 디바이스 전반에 대한 결함 검출을 위해 업계에서 가장 폭넓은 운용 범위를 만들어 냅니다. 혁신적인 Yellowstone™ 스캐닝 모드는 높은 해상도를 유지하면서 빠른 속도로 운용할 수 있으므로, 의심되는 핫스팟에 대한 효율적 검사와 넓은 반도체 칩 영역 내 결함 검출이 가능합니다. 업계 유일한 Simul-6™ 기술은 단 한 번의 스캔으로 표면, 형상, 재료 명암, 딥 트렌치(deep trench) 정보를 모두 제공하므로, 다양한 종류의 결함에 대한 완전한 정보를 수집하는데 필요한 시간을 감소시킵니다. 인공지능(AI)이 통합된 eSL10은 핵심 관심 결함(DOI)을 패턴 및 공정 노이즈로부터 구별할 수 있는 딥 러닝 알고리즘을 도입하여, 연구개발 및 생산량 증대과정 동안 중대한 결함을 검출하고 분류할 수 있습니다.

애플리케이션
고해상도 결함 검출, 결함 검출, 연구개발 공정 디버그, 엔지니어링 분석, 생산량 증대 및 라인 모니터링
관련제품

eDR7xxx™: 10 nm 이하 디자인 노드 IC 개발 및 생산을 위한 전자빔 웨이퍼 결함 리뷰 및 분류 시스템.

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39xx

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39xx

초해상도 광대역 플라즈마 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템

392x 시리즈 광대역 플라즈마 결함 검사 시스템은 ≤7nm 로직 및 첨단 메모리 디자인 노드를 위한 웨이퍼 수준의 결함 검출, 수율 학습 및 인라인 모니터링을 지원합니다. 초해상도 deep UV (SR-DUV) 파장 밴드를 발생시키는 광원 기술과 혁신적인 센서를 사용하는 3920와 3925는 독특한 결함 유형을 고감도로 검출합니다. 392x 시리즈도 첨단 디자인을 감안한 알고리즘, pixel•point™과 nano•cell™을 활용하여, 수율에 중대한 영향을 주는 패턴 위치에서 결함을 검출하고 분류합니다. 392x 시리즈는 인라인 모니터링 요구사항을 지원하는 처리 속도와 감도를 갖추어 Discovery at the Speed of Light™을 가능토록 하여 개발 및 대량 생산 중에 공정 이슈의 완전한 특성화를 위한 웨이퍼 수준의 데이터를 제공하는데 필요한 시간을 단축시킵니다.

애플리케이션
결함 검출, Hotspot 검출, 공정 디버그, EUV 프린트 체크, 엔지니어링 분석, 라인 모니터링, 공정 윈도우 발견
관련제품

3900 및 3905: 10nm이하의 로직 및 첨단 메모리 소자에서 수율에 중대한 영향을 주는 결함을 검출하는 광학 광대역 플라즈마 웨이퍼 결함 검사기.

29xx 시리즈: 다양한 디자인 노드 및 소자 유형에서 결함을 검출하기 위한 39xx 시리즈의 검사 성능을 보완하는 광학 광대역 플라즈마 웨이퍼 결함 검사기.

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29xx

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29xx

광대역 플라즈마 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템

295x 시리즈 광대역 플라즈마 결함 검사 시스템은 ≤7nm 로직 및 첨단 메모리 설계 노드에서 수율에 중대한 영향을 주는 결함을 발견하는 첨단 광학 결함 검사를 제공합니다. 고도화된 광대역 플라즈마 조광 기술과 디자인을 인식한 신규 pixel•point™ 및 nano•cell™ 기술을 활용한 2950 및 2955 광대역 플라즈마 결함 검사기는 다양한 공정층, 물질 유형 및 공정 스택에 걸친 중대한 영향을 미치는 결함을 검출할 수 있는 감도를 제공합니다. 인라인 모니터링을 위한 산업 표준으로써 295x 시리즈는 광학 웨이퍼 결함 검사기 속도와 감도를 갖추어 최적 소유비용에서 결함 문제의 완전한 특성화 및 빠른 결함 검출을 결합하는 Discovery at the Speed of Light™을 가능하게 합니다.

애플리케이션
결함 검출, Hotspot 검출, 공정 디버그, 엔지니어링 분석, 라인 모니터링, 공정 윈도우 발견
관련제품

39xx 시리즈: ≤10nm 디자인 노드 소자에 대한 결함 검출을 위한 시리즈의 검사 성능을 보완하는 초해상도deep UV(SR-DUV) 파장밴드를 탑재한 광학 광대역 플라즈마 웨이퍼 결함 검사기.

2930 및 2935: 10nm 이하의 로직 및 첨단 메모리 소자에 대해 수율에 중대한 영향을 미치는 결함을 검출하는 역량을 제공하는 광학 광대역 플라즈마 웨이퍼 결함 검사기.

2920 및 2925: 16nm 이하 메모리 및 로직 소자 수율에 중대한 영향을 미치는 결함을 검출하는 광학 광대역 플라즈마 웨이퍼 결함 검사기.

2910 및 2915: 2X/1Xnm 메모리 및 로직 소자 수율과 관련된 결함을 검출하는 광학 광대역 플라즈마 웨이퍼 결함 검사기.

2900 및 2905: 2Xnm 메모리 및 로직 소자 수율과 관련된 결함을 검출하는 광학 광대역 플라즈마 웨이퍼 결함 검사기.

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Voyager®

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Voyager®

레이저 스캐닝 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템

Voyager® 1015 레이저 스캐닝 검사 시스템은 생산 램프 결함 모니터링을 지원하며 웨이퍼 리워크가 아직 가능할 때 이머전(193i) 및 EUV Litho 모두에 대한 현상 후 검사(ADI)에 특화되어 있습니다. DUV 레이저, 신규 광학 설계 및 최대 입체각 컬렉션을 통해 첨단 디자인 노드에서의 ADI 중에 발견되는 타이트 피치에 필요한 결함 민감도를 생성합니다. 맞춤 센서와 변경가능한 레이저를 통해 섬세한 감광재 소재를 검사할 수 있으며 경사 조명과 첨단 알고리즘은 연관성 높은 결과를 위해 ADI 검사 고유의 노이즈원을 억제합니다. Voyager 1015는 Fab의 기타 모듈 및 Litho 셀 내에 중대한 영향을 주는 결함을 높은 수준으로 검출하여 공정 문제를 신속하게 파악하고 시정할 수 있습니다.

애플리케이션
라인 모니터, 툴 모니터, 툴 인증, 193i 및 EUV 레지스트 인증
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Puma

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Puma

레이저 스캐닝 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템

Puma™ 9980 레이저 스캐닝 검사 시스템은 다수의 민감도 및 속도 개선을 접목하여 1Xnm 첨단 로직과 첨단 DRAM 및 3D NAND 메모리 소자 대량생산에 필요한 관심 결함(DOI)를 검출할 수 있도록 합니다. 첨단 웨이퍼 결함 검사 및 리뷰 툴의 일환인 Puma 9980은 첨단 패터닝 층의 결함 유형 검출을 개선하여 생산 램프 모니터링에 대한 고처리량 솔루션을 제공합니다. Puma 9980은 NanoPoint™ 디자인을 감안한 역량을 접목하여 결함 민감도 증가, 시스템 노이즈성 분류 개선 및 결함 좌표 정확도 강화를 통해 실행가능한 검사 결과를 생성합니다.

애플리케이션
라인 모니터, 툴 모니터, 툴 인증
관련제품

Puma 9850: 2X/1Xnm 메모리 및 로직 소자에 대한 모든 다이 영역 내 고감도 공정사고 모니터링 제공.

Puma 9650: ≤28nm 메모리 및 로직 소자에 대한 모든 다이 영역 내 고성능 공정사고 모니터링 제공.

Puma 9500: ≤32nm 메모리 및 로직 소자에 대한 모든 다이 영역 내 고성능 공정사고 모니터링 제공.

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8 시리즈

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8 시리즈

고생산성 패턴 웨이퍼 광역 검사 시스템

8 시리즈 패턴 웨이퍼 검사 시스템은 생산 공정 문제를 신속히 파악하고 해결할 수 있도록 매우 높은 생산량 수준에서 다양한 결함 유형을 검출합니다. 8 시리즈는 효율적인 비용으로 초기 제품 개발 단계부터 양산까지 150mm, 200mm, 또는 300mm 실리콘 및 비실리콘 기판 웨이퍼의 결함 검사를 지원하며 더 많은 수의 로트와 웨이퍼 샘플링을 가능토록 하여 Fab 내 공정사고 위험을 감소시킵니다. 최신 8930 웨이퍼 결함 검사 시스템은 다중모드 LED 스캐닝 역량, FlexPoint ™ 정밀 면적 검사와 더불어 자동 웨이퍼 결함 리뷰 및 분류를 선보입니다. 해당 기술을 통해 낮은 잡음비로 중대한 영향을 미치는 결함에 대한 고생산성 검출이 가능하며 저비용으로 첨단 및 레거시 노드 IC Fab 모두 신뢰성 있는 제품 생산을 가속화하도록 지원합니다.

애플리케이션
공정 모니터, 툴 모니터, 출고 품질 관리 (OQC)
관련제품

CIRCL: 8 시리즈 검사 기술은 정면, 후면 및 엣지의 모든 표면 웨이퍼 측정을 위해 설계된 CIRCL 결함 검사, 계측 및 리뷰 클러스터 툴에서 모듈로 제공됩니다.

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CIRCL™

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CIRCL™

전체 표면 웨이퍼 결함 검사, 계측 및 리뷰 클러스터 시스템

CIRCL™ 클러스터 툴은 효율적인 공정 제어를 위한 높은 처리량 수준에서 병렬 데이터 수집을 제공하며 모든 웨이퍼 표면을 다루는 4개의 모듈을 보유합니다. 최신 세대 CIRCL5로 이뤄진 모듈은 다음 사항을 포함합니다: 전면 웨이퍼 결함 검사기; 웨이퍼 엣지 결함 검사 프로파일, 계측 및 리뷰; 후면 웨이퍼 결함 검사 및 리뷰; 전면 결함의 광학 리뷰 및 분류. 한개의 측정값에 대한 결과를 사용하여 클러스터 내 다른 유형의 측정값을 유도하는 혁신적인 접근법인 DirectedSampling™을 통해 데이터 수집을 제어합니다. CIRCL5 모듈 구성은 다양한 공정 제어 니즈에 대한 유연성을 제공하고 전체 Fab 공간을 절약하며 Fab의 자본 투자를 절감하는 비용 효율적인 업그레이드 경로를 제공합니다.

애플리케이션
공정 모니터, 출고 품질 관리 (OQC), 툴 모니터, 후면 모니터, 엣지 수율 모니터
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Surfscan®

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Surfscan®

비패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템

Surfscan® SP7 비패턴 웨이퍼 검사 시스템은 설비제작을 위한 공정 툴 성능, 기판 (substrate) 제조, SOI 웨이퍼, 에피택셜, 프라임 실리콘 등의 첨단 기판 (substrate), IC 제조 및 EUV Litho그래피를 포함한 툴, 소재, 공정의 인증에 걸쳐 첨단 로직 및 메모리 디자인 노드를 지원합니다. 최대 전력 제어가 가능한 DUV 레이저원, 새로운 광학 아키텍처, 다양한 빔스팟 크기 및 첨단 알고리즘을 활용한 Surfscan SP7는 베어 웨이퍼, 표면이 부드럽거나 거친 박막 및 섬세한 감광재 또는 Litho 스택을 위한 높은 처리량 수준에서 결함 분류를 개선하고 궁극의 감도를 제공합니다. 또한 Surfscan SP7는 미세한 결함을 검출하고 표면 품질을 특성화하는 고해상도 SURFmonitor™ 모듈을 결합하여 공정과 툴의 인증을 지원합니다.

애플리케이션
공정 인증, 툴 인증, 툴 모니터링, 출고 웨이퍼 품질 관리, 입고 웨이퍼 품질 관리, EUV 레지스트 및 스캐너 인증, 공정 디버그
관련제품

Surfscan SP5XP: 1Xnm 디자인 노드에서 IC, 기판(substrate) 및 설비 제조업체를 위한 높은 처리량과 DUV 감도를 보유한 비패턴 웨이퍼 표면 검사 시스템.

Surfscan SP5: 2X/1Xnm 디자인 노드에서 IC, 기판(substrate) 및 설비 제조업체를 위한 높은 처리량과 DUV 감도를 보유한 비패턴 웨이퍼 표면 검사 시스템.

Surfscan SP3: 2Xnm 디자인 노드에서 IC, 기판(substrate) 및 설비 제조업체를 위한 높은 처리량과 DUV 감도를 보유한 비패턴 웨이퍼 표면 검사 시스템.

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eDR7xxx

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eDR7xxx

전자빔 웨이퍼 결함 리뷰 및 분류 시스템

eDR7380™ 전자 빔(ebeam) 웨이퍼 결함 리뷰 및 웨이퍼 결함 분류 시스템은 고해상도 결함 이미지를 검출하여 웨이퍼에 대한 결함 분포를 정확하게 표시합니다. 다양한 전자 광학 전용 인렌즈 검출기를 보유한 eDR7380는 섬세한 EUV Litho층, 높은 종횡비 트렌치층 및 전압 명암비층을 포함한 공정 단계에 걸쳐 결함 시각화를 지원합니다. 고유의 Simul-6™ 기술은 정확한 결함 원인 파악 및 신속한 이탈점 감지를 위해 단일 테스트에서 완전한 관심 결함 파레토를 생성합니다. 광대역 광학 패턴 웨이퍼 검사기를 위한 IAS™와 베어 웨이퍼 검사기를 위한 OptiSens™ 등의 연결성 기능을 보유한 eDR7380는 IC 및 웨이퍼 제조과정 중 빠른 수율 학습을 위한 KLA 검사기에 독특한 연결고리를 제공합니다.

애플리케이션
결함 이미징, 자동 인라인 결함 분류 및 성능 관리, 베어 웨이퍼 출고 및 입고 품질 제어, 웨이퍼 분류, Hotspot 검출, 결함 검출, EUV prink check, 공정 윈도우 검출, 공정 윈도우 인증, Bevel 엣지 리뷰.
관련제품

eDR7280: ≤16nm 디자인 노드 IC 개발 및 생산을 위한 5세대 전자 빔 immersion 광학을 탑재한 전자 빔 웨이퍼 결함 리뷰 및 분류 시스템

eDR®은 KLA 기업이 등록한 상표입니다

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